
LabHC (Saint-Etienne)
Nanofabrication par lithographie UV
Contact
Laboratoire Hubert Curien
Plateforme Laser Femtoseconde
Plateforme NanoSaintEtienne
Bâtiment F
18 Rue du Professeur Benoît Lauras
42000 Saint-Etienne

Le Laboratoire Hubert Curien développe depuis plus de 20 ans des activités de recherches et innovations sur les interactions lumière-matière, en particulier sur l’interaction laser-matière et/ou l’apport de fonctionnalités aux surfaces et aux matériaux.
La plateforme laser femtoseconde permet la structuration et la fonctionnalisation des surfaces, à l’échelle nanométrique et micrométrique. Elle est équipée avec des platines de positionnement de résolution nanométriques ainsi que des scanners galvanométriques permettant un traitement de grandes surfaces à haute cadence. Il est également possible de contrôler l’environnement par chambre à vide.
La plateforme NanoSaintÉtienne permet la structuration et la fonctionnalisation des surfaces. Elle possède tous les outils de lithographie (masquage, lithographie interférentielle, colloïdale et laser) pour la micro- et nano-structuration de couches fonctionnelles (résine et sol-gel) sur des grandes surfaces et des surfaces complexes, avec des moyens de dépôts et de caractérisation (optique, microscopique et spectroscopique).
Équipements ouverts à l’accueil dans le cadre de LUMA
Plateforme Laser Femtoseconde
Environnement 1 : Pharos I (Light Conversion)
- 1030 nm, 180 fs
- Énergie : de 1,5 mJ@1 kHz à 10 µJ@100 kHz
- Sous-division en cadence possible
- Mode burst
- Génération d’harmoniques : 515 nm, 343 nm, 257 nm ; 100 kHz
- OPA : 60 kHz, longueurs d’ondes accessibles : 250 nm à 15 nm
- Harpia : spectroscopie résolue en temps femtoseconde
Environnement 2 : Pharos II (Light Conversion)
- 1030 nm, 170 fs
- Énergies : 1 mJ@10 kHz, 200 µJ@50 kHz, 50 µJ@200 kHz, 9 µJ@1,1 MHz
- Sous-division en cadence possible
- Modes burst et bi-burst (régime MHz et GHz)
- Génération d’harmoniques : 515 nm, 343 nm, 257 nm
- Mise en forme spatiale et de polarisation du faisceau
- Micro/nano-structuration (possibilité d’un environnement contrôlé), PLD, scanner galvanométrique
Environnement 3 : Legend I (Coherent)
- 800 nm, 40 fs
- Énergie : 3 mJ@1 kHz
- Sous-division en cadence possible
- Mode burst
- Mise en forme de la polarisation du faisceau
- Microscopie wDPM
Environnement 4 : Legend II (Coherent)
- 800 nm, 40 fs
- Énergie : 3 mJ@2 kHz
- Sous-division en cadence possible
- Mode burst
- OPA, longueurs d’ondes accessibles : 250 nm à 15 nm
- Spectroscopie THz et MIR
Plateforme NanoSaintEtienne
Nettoyage de substrats :
- Wet Bench avec bains à ultrasons acétone et éthanol, et bacs de rinçage eau déionisée
- Nettoyeur à plasma d’oxygène pour substrats de 1″ à 4″
Enduction par voie chimique :
- Tournettes pour substrats de 1″ à 22″
- Dip-coater pour substrats de 1″ à 4″
- Étuves et plaques chauffantes pour traitements thermiques jusqu’à 200 °C
Dépôts de micro-objets par procédé Langmuir-Blodgett :
- Taille de substrat : 1″ à 4″
Photolithographie :
- Deux insolateurs directs à LED UV : 275 nm et 365 nm
- Aligneur de masque SET 702 : 365 nm, substrats jusqu’à 4″
- Aligneur de masque Kloé UV-KUB-3 : 365 nm, substrats jusqu’à 4″
Lithographie sans masque :
- Kloé Dilase 750 : substrats jusqu’à 400 × 400 mm² résolution 4 µm
- DMO MicroWriter : substrats jusqu’à 149 × 149 mm², résolution 1 µm
Lithographie interférentielle :
- Inscription directe de motifs sinusoïdaux
- Trois longueurs d’onde (355 nm, 405 nm, 442 nm) sur deux bancs automatisés
- Taille de substrat : 1″ à 4″
Dépôts de couches minces par voie physique :
- Épaisseurs déposées : 10 à 200 nm (jusqu’à 10 µm pour le Cu)
- Dépôts par évaporation : Al, Au, Cr, Pd
- Dépôts par pulvérisation magnétron : Al, Co, Cr, et Cu
Four RTA (Rapid Thermal Annealing) :
- Température max : 1200 °C
- Atmosphères de travail : Air, Ar, NH2, NH3, O2
- Taille de substrat : 1″ à 4″
Les autres plateformes ULTRAFAST

INFRASTRUCTURE
ULTRAFAST
CELIA • Bordeaux
I2BC • Gif-Sur-Yvette
ILM • Lyon
IPCMS • Strasbourg
LIDYL • Saclay
LP3 • Marseille
LabHC • Saint-Etienne
ICB • Dijon
IMMM • Le Mans
L2N • Troyes
LASIRE • Villeneuve d’Ascq
LOB • Palaiseau










