L2n (Troyes)
Laboratoire Lumière, nanomatériaux et nanotechnologies
Contact
Laboratoire Lumière
nanomatériaux et nanotechnologies
12 rue Marie Curie
10004 TROYES CEDEX
L2n (Université de Technologie de Troyes) : Lithographie 3D avancée pour la nano-optique et la nanophotonique
Le L2n est spécialisé dans l’interaction lumière-matière à l’échelle nanométrique, notamment la nano-optique et la nanophotonique, avec des applications dans les domaines de l’énergie, des télécommunications, de la santé et de la sécurité. Le laboratoire associe des développements fondamentaux et des innovations technologiques, s’appuyant sur sa plateforme technologique nano’mat. La plateforme comporte un équipement de lithographie 3D avancée basé sur la photopolymérisation à deux photons et la fonctionnalisation de surface.
La plateforme nano’mat comprend 1000 m² de laboratoires, dont 700 m² de salles blanches, dédiées à la fabrication et la caractérisation autour des nanotechnologies. L’approche de lithographie avancée développée au L2n repose sur une méthode hybride combinant photopolymérisation à deux photons et fonctionnalisation de surface, permettant la fabrication d’objets hybrides métal-semiconducteur-polymère (assemblages 3D de nanoparticules plasmoniques, magnétiques et photoluminescentes, greffage de nanocatalyseurs à base de TiO2 ou de ZnO, nano-sources hybrides métal/QDs, integration de sources à photons uniques, etc.).
Pour améliorer la qualité de fabrication et optimiser la résolution des structures 3D, un module de fabrication multimatériaux est prévu, permettant des fabrications continues sans étape de développement intermédiaire. Ce module de chez HETEROMERGE est compatible avec la machine Nanoscribe. L’intégration de ce module avec la machine Nanoscribe permet une impression continue en utilisant jusqu’à cinq résines différentes, rendant possible la fabrication de structures 3D multi-échelles et multifonctionnelles. Ces structures peuvent combiner à la fois, un support mécanique, des architectures photoniques, des surfaces biocompatibles avec modifications localisées, ainsi qu’une intégration spatialement contrôlée et précise d’émetteurs quantiques, avec une résolution à l’échelle nanométrique si combinée avec la photopolymérisation assistée par le plasmon de surface localisé.
Équipements ouverts à l’accueil dans le cadre de LUMA
La machine de lithographie 3D
Photonic Professional GT2 de chez Nanoscribe
Module Multimatériaux HETEROMERGE lithographie 3D
Ce module permet la fabrication de structures complexes sur différentes échelles, sans développement intermédiaire. Il s’agit d’un nouvel équipement qui sera acquis dans le cadre de l’intégration au PEPR LUMA
Appareil de séchage super-critique (Tousimi 931 CPD)
Cet appareil est adapté au développement de microstructures 3D fabriquées par P2P
Les techniques de caractérisation structurale (MEB, AFM, microscopie optique…)
Les autres plateformes ULTRAFAST
INFRASTRUCTURE
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